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磁控溅射镀膜常见故障及解决办法

发布时间:12-21
磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的故障呢?


磁控溅射镀膜常见故障及解决办法


1.无法起辉


(1)直流电源故障,检查直流电源;


(2)氩气进气量小,检查氩气流量计或加大氩气进气量;


(3)真空室清洁度不够,清洁真空室;


(4)靶材绝缘度不够,检查靶是否与地短路,在通水的情况下,对地电阻应该在 50kΩ以上;


(5)磁场强度不够,检查永磁体是否消磁;


(6)真空度太差,检查真空系统。


2.辉光不稳


(1)电压电流不稳,检查电源;


(2)真空室压力不稳,检查氩气进气量及真空系统;


(3)电缆故障,检查电缆是否连接良好。


3.成膜质量差


(1)基片表面清洁度差,清洁基片表面;


(2)真空室清洁度差,清洁真空室;


(3)基片温度过大或过小,检查温控系统,校准热电偶;


(4)真空室压力过大,检查真空系统;


(5)溅射功率设置不当,检查直流电源,设置何事的设定功率。


4.溅射速率低


(1)氩气进气量过大或过小,观察辉光颜色可以判定氩气是过大还是过小,据此调整氩气进气量;检修流量计;


(2)靶材过热,检查冷却水流量;


(3)检查永磁体是否消磁。
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